001 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法 002 官能化聚合物 003 光刻设备、装置制造方法和计算机程序 004 烘烤系统 005 光致抗蚀剂移除组合物 006 用于EUV光刻的掩模版及其制作方法 007 光掩模传送支撑座及光掩模传送方法 008 装载锁定装置,包括该装置的光刻设备及制造基底的方法 009 化学增幅光阻剂组成物 010 光刻装置中质量体的位置控制 011 投影系统及利用该投影系统的方法 012 具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置 013 平板印刷设备、器件制造方法和计算机程序 014 在蚀刻处理后移除聚合物的方法 015 多层光致抗蚀剂系统 016 光敏树脂组合物和应用该组合物形成树脂图形的方法 017 感放射线性树脂组合物 018 感光性树脂转印装置以及方法 019 在任意尺寸的柔顺介质上复制高分辨率三维压印图案的方法 020 光刻投影装置中的聚焦疵点监测 021 光刻设备及装置制造方法 022 光刻装置,器件制造方法,掩模以及确定掩模和/或薄膜特征的方法 023 光刻装置,设备制造方法和角编码器 024 照明器控制的影调反转印刷 025 用于光刻胶的感光树脂组合物 026 亚砜吡咯烷(啉)酮链烷醇胺剥离和清洗组合物 027 集成电路光刻设备的磁悬浮精密工件台 028 负性彩色感光组合物 029 正性光敏树脂组合物、制备正性光敏树脂组合物的方法及半导体设备 030 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用 031 用于显微光刻中的抗反射层 032 形成光刻用防反射膜的组合物 033 一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺 034 准分子激光电化学微结构制造方法及其装置 035 模板和光学特征测量方法 036 使用反射掩膜的集成电路 037 光敏性树脂组合物 038 相移波纹聚焦监视器 039 减少透镜像差与图案移位的光罩与方法 040 微影制程 041 图形形成方法及曝光装置 042 曝光系统及方法 043 具有群组补偿能力的曝光系统及方法 044 防止回溅的装置与方法 045 液晶显示面板前段阵列制造工艺中第一道黄光暨蚀刻方法 046 在曝光对位制造工艺中去除彩色光阻的方法 047 光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光学掩模 048 微细图案形成材料及微细结构的形成方法 049 采用准分子激光制备高聚物基生物芯片微流路结构的方法和系统 050 薄膜晶体管的制造方法 051 在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 052 具有洗边装置的显影机台 053 形成无侧叶现象的光致抗蚀剂层的方法 054 金属掩模板 055 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置 056 一种紫外曝光机及其曝光量自动控制方法及其装置 057 最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺 058 一次扫描两个普通曝光区域的曝光方法 059 在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 060 二元光学器件变灰度掩模制作方法及装置 061 表面等离子体共振图像分析金膜点阵列的制备方法 062 多层光致抗蚀剂系统 063 平版印刷装置和设备的制造方法 064 着色光敏树脂组合物 065 图像形成用感光性树脂组合物 066 固化树脂图案的形成方法 067 化学放大型光刻胶组合物 068 含有苯酚-亚联苯基树脂的负型光敏树脂组合物 069 光致抗蚀剂组合物及其制备方法 070 用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物 071 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 072 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 073 为用于深的亚波长光刻的掩模原版图案提供光学逼近特征的方法和装置 074 用于对物体进行辐射的粒子-光学装置 075 改进的图形发生器反射镜结构 076 表面处理装置 077 光刻装置及器件制造方法 078 光刻装置和器件制造方法 079 用于直接写入光刻的产生可变间距嵌套线或接触孔的方法 080 光刻装置,器件制造方法,以及由此制造的器件 081 控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件 082 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到的器件 083 确定工艺步骤的特征的方法和器件制造方法 084 光刻装置,器件制造方法以及该方法制造的器件 085 光刻装置,器件制造方法和由此制造的器件 086 校准光刻装置的方法,对准方法,计算机程序,光刻装置和器件制造方法 087 一种包括传感器的组件,其制造方法及光刻投影设备 088 蚀刻方法和用于形成蚀刻保护层的组合物 089 正感光性聚酰亚胺树脂组合物 090 负作用水性光刻胶组合物 091 感光树脂组合物 092 一种用于展宽显示屏幕视角的光学薄膜的制备方法 093 激光光绘机负压式全自动上下片装置 094 黑色矩阵用感光性树脂组成物 095 微光学器件数字分形掩模制作方法 096 用于液晶设备的正型光刻胶组合物 097 反应显影布图方法 098 形成光刻用防反射膜的组合物 099 制作微电子器件的工艺 100 X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法 101 X射线掩模与石英环紫外固化装置及使用方法 102 无尘室的制作程序机台配置 103 氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法 104 一种电子束缩小投影曝光成像系统 105 不同层次的曝光方法 106 防止液体回溅的装置 107 湿蚀刻装置 108 光阻剥离方法 109 X射线光刻对准标记图形 110 包括二叠氮醌硫酸酯化合物的感光树脂组合物 111 接触孔洞光学邻近效应修正和掩模及半导体装置制造方法 112 光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法 113 聚合物和含有该聚合物的光刻胶 114 氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶 115 黑色矩阵用感光性树脂组成物 116 正型光阻剂组合物及形成光阻图样的方法 117 一种光刻胶涂敷装置 118 感光材料的排放部件和涂覆装置以及涂覆感光层的设备 119 基于厚胶光刻的三维微结构加工方法 120 装置制造方法,掩模组,数据组,掩模图案化方法及程序 121 装置制造方法 122 曝光方法和使用这种方法的半导体器件制造方法 123 防蚀显影组合物 124 等离子体反应室 125 可降低光学接近效应的光罩 126 平版印刷板材料和平版印刷板材料的制备方法 127 光致抗蚀剂聚合物与含有该光致抗蚀剂聚合物的光致抗蚀剂化合物 128 间隙体用感光性树脂组成物 129 正型感光性树脂组成物 130 微透镜的制造方法 131 基板型显像装置 132 投影曝光设备 133 化学漂洗组合物 134 环境中耐久的、自密封的光学制品 135 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 136 剥离抗蚀剂的方法 137 用于对准或重叠的标记结构,限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置 138 用于使得存储器阵列区域小型化的布局方法 139 加热处理装置的温度校正方法、显影处理装置的调整方法和半导体器件的制造方法 140 具有主支柱和辅助支柱的模版掩模及其形成方法 141 灰调掩模的制造方法 142 灰调掩模的制造方法和灰调掩模 143 光聚合型平版印刷版 144 平板印刷板前体和平板印刷方法 145 感光性树脂前体组合物 146 着色感光性树脂组合物 147 曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法 148 利用多投影掩模制造多个电路图案的方法和设备 149 使用包括衍射光学元件的照明系统制造半导体器件的方法 150 光刻装置及器件制造方法 151 光刻装置、器件制造方法和由此制造的器件 152 光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件 153 光刻装置的校准方法和器件制造方法 154 具有箔俘获的激光产生的等离子辐射系统 155 光刻装置和器件制造方法 156 对NA-σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置 157 光刻装置和器件制造方法 158 使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法 159 用于平板显示器的像差可校正大视场投影光学系统 160 光刻装置及集成电路制造方法 161 光刻投影装置和器件制造方法 162 曝光装置 163 光刻装置以及器件制造方法 164 用于次半波长光刻构图的改善的散射条OPC应用方法 165 光刻构图装置的保险机构 166 光刻装置,器件制造方法,以及由此制造的器件 167 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法 168 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法 169 去除TFT-LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物 170 印刷原版用冲孔装置 171 放射线敏感性电容率变化性组合物和电容率图案形成方法 172 感光性陶瓷组合物以及使用该组合物的多层基板的制造方法 173 光敏膜和印刷线路板用光敏组合物及其生产方法 174 用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法 175 图形制造系统、曝光装置及曝光方法 176 导光板模仁的制造方法 177 导光板模仁制造方法 178 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法 179 感光性树脂组成物以及其制出的彩色滤光片用透明材料 180 带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法 181 光刻装置和装置调节方法 182 多层反射远紫外线光刻掩模坯件 183 无掩模微成影中用时间和/或功率调制获得剂量灰度化 184 用于除去感光树脂的稀释剂组合物 185 具有双嵌附层的减光型相移光罩及其制作方法 186 用于设计数字变形线条网屏的系统和方法 187 水溶性负型光阻及其形成光阻图案的方法 188 用于涂布EUV平板印刷术基底的方法和具有光刻胶层的基底 189 着色感光性树脂组合物 190 光敏金属纳米颗粒和用其形成导电图案的方法 191 系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 192 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法 193 正型感光性树脂组合物、树脂膜的制造方法、半导体装置和显示元件及其制造方法 194 用于显示面板的垫片、辐射敏感树脂组合物和液晶显示器 195 光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法 196 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 197 正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 198 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 199 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 200 布线保护膜形成用组合物及其用途 201 用于接触孔掩模的光学逼近校正设计的方法 202 图案绘制装置 203 Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的Y移位中的位置校正 204 去除光罩遮光缺陷的方法及其半导体装置的制造方法 205 可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩制作方法 206 带状工件的两面投影曝光装置 |
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